・半導体工場のサブファブ省スペース化と設計負荷低減を評価
荏原製作所（以下、荏原）は6月24日、一般社団法人日本真空工業会が実施する「2025年度 JVIA表彰」において、一体型真空排気システム「EVIS（Ebara Vertical Integrated System）」が「真空コンポーネント大賞」を受賞したと発表した。
JVIA表彰は、真空産業の発展に寄与した技術や製
品、人材・活動を顕彰する制度。今回の受賞では、半導体製造現場における設備制約への対応力と、顧客側の設計負担軽減に寄与する製品コンセプトが高く評価された。
近年、半導体製造分野では回路の微細化・高集積化が進み、工程数の増加に伴って関連設備も増設されている。この結果、製造装置を支える補助設備を配置する「サブファブエリア」の過密化が課題となっている。
こうした課題に対し、荏原は真空技術を中核としたソリューション展開を進め、「省スペース」「省エネルギー」「省オペレーション」の3つの“省く”をコンセプトに製品開発を推進している。
受賞対象となったEVISは、燃焼式排ガス処理装置「LA+」と真空ポンプを一体化した真空排気システム。LA+は従来機と比較して筐体高さを約50％低減したコンパクト設計を実現しており、その削減スペースを活用して真空ポンプを組み込み、パッケージ化した点が特徴だ。
システムの一体化により、半導体メーカーや装置メーカー側で必要となるレイアウト設計や設備検討の工数削減につながるほか、サブファブの有効活用にも貢献する。
荏原は今後も、半導体製造プロセスの高度化を支える真空ソリューションの提供を通じ、製造現場の効率化や持続可能な生産環境の実現に取り組む方針としている。
ニュースリリース
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