米半導体大手のマイクロン・テクノロジー（Micron Technology）は7月4日、広島工場（広島県東広島市）の生産能力増強に向けた新棟建設工事に着手した。次世代DRAMの量産体制構築を目的とするもので、日本政府の支援も活用しながら先端半導体の国内供給基盤を強化する。完成後はAI（人工知能）やデータセンター向け需要の拡大に対応する最先端メモリー製品の生産拠点としての役割を担う。
新棟は、EUV（極端紫外線）露光技術を活用した次世代DRAM製造に対応するクリーンルームを備え、生産設備やインフラを順次整備する計画。これにより広島工場は、マイクロンのグローバル生産ネットワークにおける中核拠点として機能を一段と強化する。
同社は日本国内で研究開発や生産への投資を継続しており、今回の建設プロジェクトもその一環。経済産業省による半導体産業支援策を活用しながら、国内サプライチェーンの強靱化や先端半導体の安定供給に貢献するとともに、地域経済への波及効果や雇用創出も期待される。
半導体市場ではAI関連需要の急拡大を背景に高性能メモリーの需要が増加しており、国内外で生産能力増強に向けた大型投資が相次いでいる。マイクロンの広島工場新棟建設は、日本の半導体産業競争力強化を象徴する大型プロジェクトの一つとして注目される。
■プロジェクト概要
- 事業名：マイクロン・テクノロジー広島工場 新棟建設プロジェクト
- 事業主体：マイクロン・テクノロジー（Micron Technology）
- 建設地：広島県東広島市（広島工場）
- 工事内容：半導体製造工場新棟（クリーンルーム等）の建設、生産設備・ユーティリティ整備
- 目的：次世代DRAM（EUV対応）の量産体制構築、生産能力拡大
- 主な用途：AI・データセンター向け先端メモリー製品の製造
- 特徴：日本政府の支援を活用した先端半導体生産基盤強化プロジェクト、国内サプライチェーン強靱化に寄与
ニュースソース（複数媒体より作成）
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