ADEKA（東京都荒川区）は8月20日、EUV PP（極端紫外線）をはじめとする先端リソグラフィ工程で使用される半導体レジスト用光酸発生剤（PAG）の生産設備を増強すると発表した。千葉工場（千葉県袖ケ浦市）の既存建屋内に製造ラインを増設し、生産能力を従来比約2倍に引き上げる。投資額は約10億円。2027年1月に着工し、2028年2月の完工、同年9月の営業運転開始を予定している。
今回の設備増強は、旺盛な需要が続くEUVリソグラフィ向け光酸発生剤の供給能力を高めるとともに、先端半導体材料の生産体制を強化するもの。1ppbレベルの厳格なメタル管理を維持しながら、生産体制の最適化を図る。
半導体市場では、生成ＡＩやデータセンターなどを背景に世界的な設備投資が活発化しており、半導体の微細化に不可欠なフォトレジスト市場も拡大している。さらに、EUVから高 NAEUV（High-NA EUV）への露光技術の進化やPFASフリーなど環境対応の進展により、フォトレジスト材料には一段と高度な性能・品質が求められている。
ADEKAは半導体材料事業で、ＡｒＦやEUV など超微細加工に対応する先端リソグラフィ分野を重点領域と位置付けている。化学増幅型レジスト（CAR）用光酸発生剤に加え、金属酸化物レジスト（MOR）用金属化合物の開発・供給体制強化を進めている。
また、2026年7月に本格始動した半導体イノベーションセンター（埼玉県久喜市）では、EUV や高NAEUVなどの次世代リソグラフィで需要拡大が見込まれるPAG モノマー（ポリマーバウンド型）の開発・評価を加速している。
今回の投資により、将来の需要増を見据えた供給体制の強化を2年前倒しで進める。ADEKA は、先端フォトレジスト向け光酸発生剤とMOR 用金属化合物を軸に、先端リソグラフィ材料の事業拡大を図る。
■設備増強の概要
▽対象＝先端フォトレジスト向け光酸発生剤製造設備（製造ライン増設）
▽所在地＝ADEKA千葉工場（千葉県袖ケ浦市北袖3-1）
▽投資額＝約10億円
▽能力増強＝従来比約2倍
▽着工＝2027年1月予定
▽完工＝2028年2月予定
▽営業運転開始＝2028年9月予定