信越化学工業（東京都千代田区）は4月9日、半導体露光材料事業の拡大に向け、同事業で四番目の拠点となる工場を、群馬県伊勢崎市に建設することを決定したと発表した。
信越化学工業は同市内に約15万㎡の事業用地を取得し、その用地に半導体露光材料の製造及び開発拠点を建設する。新工場の建設地については、複数の候補地を検討した結果、群馬県および同県伊勢崎市の斡旋も受け、この用地を選定した。信越化学工業はこの新工場における投資を段階的に実施する計画で、第一期の投資は2026年までの完工を目指す。投資金額は第一期完工の段階で、事業用地の取得も含め約830億円を見込み、全て自己資金で賄う。
信越化学工業は1997年にフォトレジスト事業を立ち上げ、直江津工場（新潟県）で当時の最先端のKrFフォトレジストの生産を開始。その後、フォトマスクブランクス、ArFレジスト、多層膜材料、EUVレジストなどの半導体露光材料を相次いで開発に成功し事業化してきた。2016年には同事業の第二の生産拠点を福井県に、2019年には第三の生産拠点を台湾雲林県に設け、製品の安定供給を果たしてきた。
半導体露光材料は、先端半導体の製造に不可欠な材料として需要が伸長しており、品質への要求も高度化し続けている。顧客からの強い要請に応えるため、事業継続の観点からもリスク分散を図ることが可能な第四の生産拠点の新設を決定した。信越化学工業はこの地を半導体材料の先進拠点として位置付け、将来は研究開発を含む半導体露光材料ほかの拠点として拡大させていく構想。
今回の投資については群馬県と伊勢崎市が全面的に協力。信越化学は、今後も顧客と社会の期待に応えるため、新拠点と半導体露光材料事業の発展に注力していくとしている。