日本曹達（東京都千代田区）は2月3日、千葉工場で半導体フォトレジスト材料「VP ポリマー」製造設備の生産能力増強を決定したと発表した。
「VP ポリマー(ポリパラヒドロキシスチレン)」は、半導体用の KrF フォトレジスト材料として 使用されている。日本曹達は独自に開発したリビングアニオン重合技術により、世界に先駆けて 「VP ポリマー」の商業化に成功したメーカーであり、同重合技術を用いた製法で得られる製品は分子量の分散度が狭く高品質であることから、半導体の品質要求の高度化に応える製品として、 フォトレジストメーカーから高い信頼を得ている。
通信技術などの進化に伴い 3D-NAND フラッシュメモリの生産量が増加し、また車載用・産業用半導体の需要が中期的に拡大傾向にあることから、フォトレジストメーカー各社は KrF フォトレジストの増産体制の構築を検討しており、「VP ポリマー」の供給体制の拡充が強く求められている。上記の旺盛な需要に対応し、安定的な供給体制を確保するために、「VP ポリマー」製造設備の生産能力増強を決定した。
日本曹達は、「VP ポリマー」や、樹脂添加剤「NISSO-PB」、および「液状 1,2-SBS」などの機能性 ポリマー事業を成長ドライバーと位置付けて拡大発展を目指している。 今後のさらなる需要の増加に対応するとともに、顧客のニーズに応じた新しいポリマー材料の提供にも取り組んでいく。
＜能力増強の概要＞
対象工場：千葉工場(千葉県市原市五井南海岸12-8)
生産能力：現状の 2 倍に増強
投資金額：25億円
完成時期：2024 年度下期