昭和電工は３月26日、川崎事業所で行っていた半導体製造工程で使用される高純度臭化水素（HBr）の生産設備増強工事が完了、今月より生産を開始したと発表した。
高純度HBrはDRAMやNAND型フラッシュメモリ等の半導体製造工程において、ポリシリコンの微細加工（エッチング）に使用される特殊ガス。IoT、ビッグデータ、自動運転といったデジタライゼーションの加速化で半導体市場はますます拡大し、それに合わせ高純度HBrの需要も拡大している。
昭和電工は、川崎事業所で年産600トンの合成・精製生産設備を有しているが、高稼働が継続していることから、さらなる需要増を見込み、このほど年産能力を1.5倍の900トンに増強した。
昭和電工の電子材料用高純度ガス事業は40年近い歴史を持ち、長年培ってきた精製・分析・品質管理技術において高評価を得ている。また、フッ素系・塩素系・臭素系・アンモニア系といった多様な高純度ガスを製造・販売する世界唯一の企業として、顧客の製造工程に最適なガスを提案している。
昭和電工は、現在推進中の中期経営計画“Project 2020＋”において、電子材料用高純度ガスを成長加速事業に位置づけており、今後も、拡大する世界の電子材料市場に迅速に対応し、同事業の強化・拡大を図っていく。