世界の半導体市場は、スマートフォンなどの情報端末やIoT機器の高機能化、小型化などにより需要の拡大が続いており、その規模は2018年に約50兆円と推測されている。なかでも中国では多くの半導体メーカーが生産拠点の敷設を進めており、先端フォトマスクの旺盛な需要が見込まれるとともに、現地生産による安定した供給体制が求められている。
凸版印刷は1961年にフォトマスク事業を開始して以来、技術力・供給力ともに業界最大級の実力を誇る。特に中国では、1995年にTPCSでの生産を開始し、2015年には90nmに対応したフォトマスクの生産設備を導入。同市場におけるトップシェアを堅持してきた。
今回、TPCSに最先端フォトマスクの生産設備を新たに導入することで、従来品から最先端品、さらに短納期対応が求められる保護膜(ペリクル)の貼り替えまでの一貫生産が可能になる。
凸版印刷は、今後も10nm以降の次世代フォトマスクの製造のほか、7nm世代からの採用が見込まれるEUVマスクなど最先端品の開発を続け、世界的に好況な半導体市場での競争優位性を維持していく。
画像:上海凸版光掩模有限公司の外観